主要优点物理性能优异高硬度与抗压性，核桃壳磨料抗压强度达23.40kgf（粒径1.2-1.6mm），耐磨性强，使用寿命长，适合干抛工艺。化学稳定性：不溶于酸碱，酸、碱溶液中损耗率低（盐酸4.99%，氢氧化钠3.8%）。 吸附油能力：吸附率高达27-50%， 通过粘附作用吸附抛光膏，出光效果更佳。 工业抛光领域干抛工艺：用于眼镜配件、珠宝首饰、电子元件、医疗器械等镜面抛光。粒度选择：4mm-0.355mm（5#、6#、7#、8#、10#、12#、14#、16#、18#、20#、24#、30#、36#、46#、60#）等特定规格。操作要点：配合抛光油（滚光油、抛光膏）使用控制抛光油用量以避免残留或过少。粒度要求：核桃壳研磨材料要求，颗粒圆润饱满，无菱角，低粉尘，无杂质。 干抛工艺特点无污染与高 效性干抛过程中无需水或抛光液，避免了废水处理问题，且抛光速度快，适合批量生产。例如，干式溜光机通过高速旋转抛光实现镜面效果，生产中无粉尘外溢。抛光用途广泛用于金属（如不锈钢、铁、锌合金、铝合金）等硬质材料，尤其适合精密零件（如航空航天器件、医疗器械）和高端装饰件（如不锈钢雕塑、珠宝首饰）的抛光。粉尘风险需控制：干抛易产生粉尘，长期吸入可能引发呼吸道疾病，需佩戴防尘口罩、护目镜等防护装备。 干抛工艺流程粗抛阶段使用粗粒度磨料（如橄榄壳磨料或核桃壳磨料6#）去除表面毛刺、氧化层，为后续抛光打基础。常用设备为干式抛光机或高速离心机、溜光机等。中抛阶段更换更细粒度磨料（核桃壳磨料18#），通过机械摩擦细化表面纹理。需控制机器转速，避免划痕或变形。精抛镜面处理采用更细的核桃壳磨料（核桃壳36#）配合抛光膏，实现镜面效果。抛光后需清洗残留磨料并检查表面粗糙度。 关键材料与设备抛光膏选择：干抛选择膏体尤为重要，根据工件材质来选择抛光膏，每种抛光膏对应的产品工件都不一样。 设备配置：干式溜光机、木滚筒机（带夹具）、分格式溜光机、离心机、涡流机等。 注意事项工艺参数控制：抛光速度过快易导致工件过热，过慢影响效率，需根据工件材质调整。压力与方向保持均匀力度和一致方向，避免交叉划痕。质量检测与防护：抛光后需检测表面光洁度（Ra值）、光泽度及尺寸精度，不合格需返工。操作人员需定期进行职业健康检查，防范粉尘和化学伤害。总结干抛工艺凭借无污染、高 效率的特点，在精密制造和高端装饰领域优势显著，但需严格把控粉尘防护和工艺参数。实际应用结合实际情况，场地等实现高效稳定的抛光效果。